Sökning: onr:98125 > Some fundamental an...
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Some fundamental and technological aspects of ion implantation in silicon
- Eklund, Klas-Håkan, 1945- (författare)
- Publicerad: Göteborg, 1974
- Engelska [2], 11, [1] bl.
- Serie: Doktorsavhandlingar vid Chalmers tekniska högskola. Ny serie, 0346-718X ; 102
- BokAvhandling(Diss. (sammanfattning) Göteborg : Chalmers tekn. högsk.)
Ämnesord
Hjälp
Stäng
Indexterm och SAB-rubrik
- Ucc Fysik Allmänt
Klassifikation
- 530 (DDC)
- QC 611
- Ucc (kssb/5)
Inga andra utgåvor av "Some fundamental and technological aspects of ion implantation in silicon" hittades
- 1 av 1
- Föregående post
- Nästa post
- Till träfflistan
Sök vidare
Hjälp
- Fler titlar av
- Eklund, Klas-Håkan, ...
- Serie
- Fler delar
Sök utanför LIBRIS
Hjälp
- Sök vidare i:
- Google Book Search
- Google Scholar
- LibraryThing
Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.
Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem
