Startsida
Hjälp
Sök i LIBRIS databas

     

 

Sökning: onr:22098571 > Si intercalation/de...

Si intercalation/deintercalation of graphene on 6H-SiC(0001) [Elektronisk resurs]

Xia, Chao (författare)
Watcharinyanon, Somsakul (författare)
Zakharov, A A (författare)
Yakimova, Rositsa (författare)
Hultman, Lars (författare)
Johansson, Leif I (författare)
Virojanadara, Chariya (författare)
Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik (tidigare namn)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi (tidigare namn)
Alternativt namn: IFM
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
Linköpings universitet Tekniska högskolan (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Tekniska fakulteten
Alternativt namn: Linköpings tekniska högskola
Alternativt namn: Tekniska högskolan vid Linköpings universtiet
Alternativt namn: LiTH
Alternativt namn: Linköping University. Institute of Technology
Se även: Universitet i Linköping Tekniska högskolan
Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik (tidigare namn)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi (tidigare namn)
Alternativt namn: IFM
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
American Physical Society 2012
Engelska.
Ingår i: Physical Review B. Condensed Matter and Materials Physics. - 1098-0121. ; 85:4, 045418
Läs hela texten
Läs hela texten
Läs hela texten
  • E-artikel/E-kapitel
Sammanfattning Ämnesord
Stäng  
  • The intercalation and deintercalation mechanisms of Si deposited on monolayer graphene grown on SiC(0001) substrates and after subsequent annealing steps are investigated using low-energy electron microscopy (LEEM), photoelectron spectroscopy (PES), and micro-low-energy electron diffraction (mu-LEED). After Si deposition on samples kept at room temperature, small Si droplets are observed on the surface, but no intercalation can be detected. Intercalation is revealed to occur at an elevated temperature of about 800. C. The Si is found to migrate to the interface region via defects and domain boundaries. This observation may provide an answer to the problem of controlling homogeneous bi-/multilayer graphene growth on nearly perfect monolayer graphene samples prepared on SiC(0001). Likewise, Si penetrates more easily small monolayer graphene domains because of the higher density of domain boundaries. Upon annealing at 1000-1100 degrees C, formation of SiC on the surface is revealed by the appearance of a characteristic surface state located at about 1.5 eV below the Fermi level. A streaked mu-LEED pattern is also observed at this stage. The SiC formed on the surface is found to decompose again after annealing at temperatures higher than 1200 degrees C. 

Ämnesord

Engineering and Technology  (hsv)
Teknik och teknologier  (hsv)
TECHNOLOGY  (svep)
TEKNIKVETENSKAP  (svep)
Inställningar Hjälp

Beståndsinformation saknas

Om LIBRIS
Sekretess
Hjälp
Fel i posten?
Kontakt
Teknik och format
Sök utifrån
Sökrutor
Plug-ins
Bookmarklet
Anpassa
Textstorlek
Kontrast
Vyer
LIBRIS söktjänster
SwePub
Uppsök

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy