Reactive sputtering of delta-ZrH2 thin films by high power impulse magnetron sputtering and direct current magnetron sputtering [Elektronisk resurs]

E-artikel/E-kapitelEngelska2014

Förlag, utgivningsår, omfång ...

American Institute of Physics (AIP)2014

Nummerbeteckningar

LIBRIS-ID:22093304
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-109234uri
urn:nbn:se:liu:diva-109234urn
10.1116/1.4882859doi

Kompletterande språkuppgifter

Språk:engelska

Ingår i deldatabas

deldatabas:Eplk_tEPLK

Anmärkningar

Published
gratis
Reactive sputtering by high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) and direct current magnetron sputtering (DCMS) of a Zr target in Ar/H-2 plasmas was employed to deposit Zr-H films on Si(100) substrates, and with H content up to 61 at.% and O contents typically below 0.2 at.% as determined by elastic recoil detection analysis. X-ray photoelectron spectroscopy reveals a chemical shift of similar to 0.7 eV to higher binding energies for the Zr-H films compared to pure Zr films, consistent with a charge transfer from Zr to H in a zirconium hydride. X-ray diffraction shows that the films are single-phase delta-ZrH2 (CaF2 type structure) at H content greater thansimilar to 55 at.% and pole figure measurements give a 111 preferred orientation for these films. Scanning electron microscopy cross-section images show a glasslike microstructure for the HiPIMS films, while the DCMS films are columnar. Nanoindentation yield hardness values of 5.5-7 GPa for the delta-ZrH2 films that is slightly harder than the similar to 5 GPa determined for Zr films and with coefficients of friction in the range of 0.12-0.18 to compare with the range of 0.4-0.6 obtained for Zr films. Wear resistance testing show that phase-pure delta-ZrH2 films deposited by HiPIMS exhibit up to 50 times lower wear rate compared to those containing a secondary Zr phase. Four-point probe measurements give resistivity values in the range of similar to 100-120 mu Omega cm for the delta-ZrH2 films, which is slightly higher compared to Zr films with values in the range 70-80 mu Omega cm.

Ämnesord och genrebeteckningar

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

Tengdelius, Lina (författare)
Samuelsson, Mattias (författare)
Eriksson, Fredrik (författare)
Broitman, Esteban (författare)
Lu, Jun (författare)
Jensen, Jens (författare)
Hultman, Lars (författare)
Linköpings universitetInstitutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Linköpings universitetTekniska högskolan (utgivare)
Linköpings universitetFilosofiska fakulteten (utgivare)

Sammanhörande titlar

Del av/supplement till:channel record
Ingår i:VärdpublikationJournal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films32:4, 0415100734-2101

Internetlänk

Länkade data-URI:er (test)

264446 (Naturvetenskap hsv)
274895 (Fysik hsv)
243422 (Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi pbl)
214173 (Linköpings universitet Tekniska högskolan pbl)
243419 (Linköpings universitet Filosofiska fakulteten pbl)

Länka till posten

Inställningar Hjälp

Beståndsinformation saknas

1 av 1
Föregående post
Nästa post
Till träfflistan

Sök vidare

Hjälp

Fler titlar av: Högberg, Hans; Tengdelius, Lina; Samuelsson, Mattias; Eriksson, Fredrik; Broitman, Esteban; Lu, Jun; visa fler...; Jensen, Jens; Hultman, Lars; Linköpings universit ...; Linköpings universit ...; Linköpings universit ...; visa färre...
Fler titlar om: Natural Sciences; Physical Sciences; Naturvetenskap; Fysik
Värdpublikation: Journal of Vacuum Sc ...; Fler artiklar

Sök utanför LIBRIS

Hjälp

Sök vidare i:: Google; Google Book Search; Google Scholar; LibraryThing

Om LIBRIS: Sekretess

Hjälp: Fel i posten?; Kontakt; Teknik och format

Sök utifrån: Sökrutor; Plug-ins; Bookmarklet

Anpassa: Textstorlek; Kontrast; Vyer

LIBRIS söktjänster: SwePub; Uppsök

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.