3ème Symposium internationale sur la gravure seche et le dépot plasma en microélectronique : École normale supérieure de l'enseignement technique, Cachan , France, 26-29 novembre 1985 / organisé par la Société française du vide ; et placé sous le patronage de l'Union international pour la science, la technique et les applications du vide..

Symposium international sur la gravure seche et le dépot plasma en microélectronique (3 : 1985) Cachan (författare)

Société françaice du vide (medarbetare)

Publicerad: Paris, 1985

Franska 283 s.

Serie: Le vide, les couches minces, 0223-4335 ; 229:suppl.

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