LIBRIS - sökning: WFRF:(Zetterling Carl Mikael 1...

Numrering	Referens	Hitta
1.	Lanni, Luigia (författare) 500 degrees C Bipolar Integrated OR/NOR Gate in 4H-SiC [Elektronisk resurs] 2013 Ingår i: IEEE Electron Device Letters. - 0741-3106. ; 34:9, 1091-1093 E-artikel/E-kapitel	Läs hela
2.	Salemi, Arash (författare) Investigation of the breakdown voltage in high voltage 4H-SiC BJT with respect to oxide and interface charges [Elektronisk resurs] 2015 Ingår i: Materials Science Forum. - 0255-5476. ; 821-823, 834-837 E-artikel/E-kapitel	Läs hela
3.	Elahipanah, Hossein (författare) 4.5-kV 20-mΩ. cm2 Implantation-Free 4H-SiC BJT with Trench Structures on the Junction Termination Extension [Elektronisk resurs] 2015 Ingår i: Materials Science Forum. - 0255-5476. ; 821, 838-841 E-artikel/E-kapitel	Läs hela
4.	Smedfors, Katarina (författare) Sputtered Ohmic Cobalt Silicide Contacts to 4H-SiC [Elektronisk resurs] 2015 Ingår i: Materials Science Forum. - 0255-5476. ; 821-823, 440-443 E-artikel/E-kapitel	Läs hela
5.	Hou, Shuoben (författare) Silicon Carbide High Temperature Photodetectors and Image Sensor [Elektronisk resurs] 2019 E-bokAvhandling	1 bibliotek Läs hela
6.	Zetterling, Carl-Mikael, 1966- (författare) Silicon dioxide and aluminium nitride as gate dielectric for high temperature and high power silicon carbide MOSFETs / Carl-Mikael Zetterling 1997 BokAvhandling	5 bibliotek
7.	Process technology for silicon carbide devices / edited by Carl-Mikael Zetterling. 2002 Bok	2 bibliotek
8.	Carroll, Jude (författare) Hjälp studenterna att undvika plagiering = Guiding students away from plagiarism / Jude Carroll och Carl-Mikael Zetterling. 2009. - 1. utg. Bok	22 bibliotek Läs hela
9.	Suvanam, Sethu Saveda (författare) Tailoring the interface between dielectric and 4H-SiC by ion implantation [Elektronisk resurs] 2015 Ingår i: Materials Science Forum. - 0255-5476. ; 821-823, 488-491 E-artikel/E-kapitel	Läs hela
10.	Design and characterization of 500°c schmitt trigger in 4H-SiC [Elektronisk resurs] 2015 Ingår i: Materials Science Forum. - 0255-5476. ; 821-823, 897-901 E-artikel/E-kapitel	Ingår i Läs hela