CF(x) thin solid films deposited by high power impulse magnetron sputtering: Synthesis and characterization [Elektronisk resurs]
-
Schmidt, Susann (författare)
-
Greczynski, Grzegorz (författare)
-
Goyenola, Cecilia (författare)
-
Kostov Gueorguiev, Gueorgui (författare)
-
Czigany, Zs (författare)
-
Jensen, Jens (författare)
-
Gueorguiev Ivanov, Ivan (författare)
-
Hultman, Lars (författare)
-
- Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
-
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik
(tidigare namn)
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi
(tidigare namn)
-
Alternativt namn: IFM
-
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
-
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
-
- Linköpings universitet Tekniska högskolan (utgivare)
-
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Tekniska fakulteten
-
Alternativt namn: Linköpings tekniska högskola
-
Alternativt namn: Tekniska högskolan vid Linköpings universtiet
-
Alternativt namn: LiTH
-
Alternativt namn: Linköping University. Institute of Technology
-
Se även: Universitet i Linköping Tekniska högskolan
-
- Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
-
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik
(tidigare namn)
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi
(tidigare namn)
-
Alternativt namn: IFM
-
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
-
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
- Elsevier 2011
- Engelska.
-
Ingår i: Surface & Coatings Technology. - 0257-8972. ; 206:4, 646-653
-
Läs hela texten
-
Läs hela texten
-
Läs hela texten
Sammanfattning
Ämnesord
Stäng
- Fluorine containing amorphous carbon films (CF(x), 0.16 andlt;= x andlt;= 0.35) have been synthesized by reactive high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) in an Ar/CF(4) atmosphere. The fluorine content of the films was controlled by varying the CF(4) partial pressure from 0 mPa to 110 mPa at a constant deposition pressure of 400 mPa and a substrate temperature of 110 degrees C. The films were characterized regarding their composition, chemical bonding and microstructure as well as mechanical properties by applying elastic recoil detection analysis, X-ray photoelectron spectroscopy, Raman spectroscopy, transmission electron microscopy, and nanoindentation. First-principles calculations were carried out to predict and explain F-containing carbon thin film synthesis and properties. By geometry optimizations and cohesive energy calculations the relative stability of precursor species including C(2), F(2) and radicals, resulting from dissociation of CF4, were established. Furthermore, structural defects, arising from the incorporation of F atoms in a graphene-like network, were evaluated. All as-deposited CF(x) films are amorphous. Results from X-ray photoelectron spectroscopy and Raman spectroscopy indicate a graphitic nature of CF(x) films with x andlt;= 0.23 and a polymeric structure for films with x andgt;= 0.26. Nanoindentation reveals hardnesses between similar to 1 GPa and similar to 16 GPa and an elastic recovery of up to 98%.
Ämnesord
- Engineering and Technology (hsv)
- Teknik och teknologier (hsv)
- TECHNOLOGY (svep)
- TEKNIKVETENSKAP (svep)
Indexterm och SAB-rubrik
- Fluorine containing carbon thin films
- HiPIMS
- CF(x)
- First principle calculations
- XPS
- TEM
Inställningar
Hjälp
Beståndsinformation saknas