Selection of metal ion irradiation for controlling Ti1-xAlxN alloy growth via hybrid HIPIMS/magnetron co-sputtering [Elektronisk resurs]
-
Greczynski, Grzegorz (författare)
-
Lu, Jun (författare)
-
Johansson, M (författare)
-
Jensen, Jens (författare)
-
Petrov, Ivan (författare)
-
Greene, Joseph E (författare)
-
Hultman, Lars (författare)
-
- Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
-
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik
(tidigare namn)
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi
(tidigare namn)
-
Alternativt namn: IFM
-
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
-
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
-
- Linköpings universitet Tekniska högskolan (utgivare)
-
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Tekniska fakulteten
-
Alternativt namn: Linköpings tekniska högskola
-
Alternativt namn: Tekniska högskolan vid Linköpings universtiet
-
Alternativt namn: LiTH
-
Alternativt namn: Linköping University. Institute of Technology
-
Se även: Universitet i Linköping Tekniska högskolan
-
- Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
-
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik
(tidigare namn)
-
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi
(tidigare namn)
-
Alternativt namn: IFM
-
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
-
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
- Elsevier 2012
- Engelska.
-
Ingår i: Vacuum. - 0042-207X. ; 86:8, 1036-1040
-
Läs hela texten
-
Läs hela texten
-
Läs hela texten
Sammanfattning
Ämnesord
Stäng
- We demonstrate, for the first time, the growth of metastable single-phase NaCl-structure high-AlN-content Ti1-xAlxN alloys (x andlt;= 0.64) which simultaneously possess high hardness and low residual stress. The films are grown using a hybrid approach combining high-power pulsed magnetron (HPPMS/HIPIMS) and dc magnetron sputtering of opposing metal targets. With HIPIMS applied to the Al target, Aln+ ion irradiation (dominated by Aln+) of the growing film results in alloys 0.55 andlt;= x andlt;= 0.60 which exhibit hardness H similar to 30 GPa and low stress sigma = 0.2-0.7 GPa, tensile. In sharp contrast, films with corresponding AlN concentrations grown with HIPIMS applied to the Ti target, giving rise to Tin+ ion irradiation (with a significant Ti2+ component), are two-phase - cubic (Ti,Al)N and hexagonal AlN - with low hardness, H = 18-19 GPa, and high compressive stress ranging up to 2.7 GPa. Annealing alloys grown with HIPIMS applied to the Al target results in age hardening due to spinodal decomposition; the hardness of Ti0.41Al0.59N increases from 30 to 33 GPa following a 900 degrees C anneal.
Ämnesord
- Engineering and Technology (hsv)
- Teknik och teknologier (hsv)
- TECHNOLOGY (svep)
- TEKNIKVETENSKAP (svep)
Indexterm och SAB-rubrik
- HIPIMS
- HPPMS
- TiAlN
- Ionized PVD
Inställningar
Hjälp
Beståndsinformation saknas