Startsida
Hjälp
Sök i LIBRIS databas

     

 

Sökning: onr:22151920 > Structure and therm...

Structure and thermal stability of arc evaporated (Ti 0.33 Al 0.67 ) 1 −  x Si x N thin films [Elektronisk resurs]

Flink, Axel (författare)
Andersson, J.M. (författare)
Alling, Björn (författare)
Daniel, R. (författare)
Sjölén, J. (författare)
Karlsson, L. (författare)
Hultman, Lars (författare)
Linköpings universitet Tekniska högskolan (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Tekniska fakulteten
Alternativt namn: Linköpings tekniska högskola
Alternativt namn: Tekniska högskolan vid Linköpings universtiet
Alternativt namn: LiTH
Alternativt namn: Linköping University. Institute of Technology
Se även: Universitet i Linköping Tekniska högskolan
Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik (tidigare namn)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi (tidigare namn)
Alternativt namn: IFM
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik (tidigare namn)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi (tidigare namn)
Alternativt namn: IFM
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
2008
Engelska.
Ingår i: Thin Solid Films. - 0040-6090. ; 517:2, 714-721
Läs hela texten
Läs hela texten
Läs hela texten
Läs hela texten
  • E-artikel/E-kapitel
Sammanfattning Ämnesord
Stäng  
  • (Ti 0.33 Al 0.67 ) 1 −  x Si x N (0 ≤  x ≤ 0.29) thin solid films were deposited onto cemented carbide substrates by arc evaporation and analyzed using analytical electron microscopy, X-ray diffraction, nanoindentation, and density functional theory. As-deposited films with x ≤ 0.02 consisted mainly of a metastable c-(Ti,Al)N solid solution for which Si serves as a veritable grain refiner. Additional Si promoted growth of a hexagonal wurtzite (Al,Ti,Si)N solid solution, which dominated at 0.02 <  x < 0.17. For x ≥ 0.17, the films were X-ray amorphous. Despite these widely different microstructures, all as-deposited films had nanoindentation hardness in the narrow range of 22–25 GPa. Isothermal annealing of the x = 0.01 alloy film at a temperature of 900 °C, corresponding to that in turning operation, resulted in spinodal decomposition into c-AlN and TiN and precipitation of h-AlN. For x = 0.09 films, annealing between 600 °C and 1000 °C yielded c-TiN precipitation from the h-(Al,Ti,Si)N phase. Furthermore, the x = 0.01 and x = 0.09 films exhibited substantial age hardening at 900 °C, to 34 GPa and 29 GPa due to spinodal decomposition and c-TiN precipitation, respectively. Films with a majority of c-(Ti,Al)N phase worked best in steel turning tests, while films with x > 0.02 developed cracks during such operation. We propose that the cracks are due to tensile strain which is caused by a decrease in molar volume during the phase transformation from hexagonal wurtzite (Al,Ti,Si)N into cubic TiN phase, which results in degradation in machining performance. 

Ämnesord

Natural Sciences  (hsv)
Naturvetenskap  (hsv)
NATURAL SCIENCES  (svep)
NATURVETENSKAP  (svep)

Indexterm och SAB-rubrik

TiAlSiN
Hardness
Phase transitions
Analytical transmission electron microscopy
Inställningar Hjälp

Beståndsinformation saknas

Om LIBRIS
Sekretess
Blogg
Hjälp
Fel i posten?
Kontakt
Teknik och format
Sök utifrån
Sökrutor
Plug-ins
Bookmarklet
Anpassa
Textstorlek
Kontrast
Vyer
LIBRIS söktjänster
SwePub
Sondera
Uppsök

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy