Startsida
Hjälp
Sök i LIBRIS databas

     

 

Sökning: onr:22093304 > Reactive sputtering...

  • Högberg, Hans (författare)

Reactive sputtering of delta-ZrH2 thin films by high power impulse magnetron sputtering and direct current magnetron sputtering [Elektronisk resurs]

  • E-artikel/E-kapitelEngelska2014

Förlag, utgivningsår, omfång ...

  • American Institute of Physics (AIP)2014

Nummerbeteckningar

  • LIBRIS-ID:22093304
  • http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-109234uri
  • urn:nbn:se:liu:diva-109234urn
  • 10.1116/1.4882859doi

Kompletterande språkuppgifter

  • Språk:engelska

Ingår i deldatabas

Anmärkningar

  • Published
  • gratis
  • Reactive sputtering by high power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) and direct current magnetron sputtering (DCMS) of a Zr target in Ar/H-2 plasmas was employed to deposit Zr-H films on Si(100) substrates, and with H content up to 61 at.% and O contents typically below 0.2 at.% as determined by elastic recoil detection analysis. X-ray photoelectron spectroscopy reveals a chemical shift of similar to 0.7 eV to higher binding energies for the Zr-H films compared to pure Zr films, consistent with a charge transfer from Zr to H in a zirconium hydride. X-ray diffraction shows that the films are single-phase delta-ZrH2 (CaF2 type structure) at H content greater thansimilar to 55 at.% and pole figure measurements give a 111 preferred orientation for these films. Scanning electron microscopy cross-section images show a glasslike microstructure for the HiPIMS films, while the DCMS films are columnar. Nanoindentation yield hardness values of 5.5-7 GPa for the delta-ZrH2 films that is slightly harder than the similar to 5 GPa determined for Zr films and with coefficients of friction in the range of 0.12-0.18 to compare with the range of 0.4-0.6 obtained for Zr films. Wear resistance testing show that phase-pure delta-ZrH2 films deposited by HiPIMS exhibit up to 50 times lower wear rate compared to those containing a secondary Zr phase. Four-point probe measurements give resistivity values in the range of similar to 100-120 mu Omega cm for the delta-ZrH2 films, which is slightly higher compared to Zr films with values in the range 70-80 mu Omega cm.

Ämnesord och genrebeteckningar

Biuppslag (personer, institutioner, konferenser, titlar ...)

  • Tengdelius, Lina (författare)
  • Samuelsson, Mattias (författare)
  • Eriksson, Fredrik (författare)
  • Broitman, Esteban (författare)
  • Lu, Jun (författare)
  • Jensen, Jens (författare)
  • Hultman, Lars (författare)
  • Linköpings universitetInstitutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
  • Linköpings universitetTekniska högskolan (utgivare)
  • Linköpings universitetFilosofiska fakulteten (utgivare)

Sammanhörande titlar

  • Del av/supplement till:channel record
  • Ingår i:VärdpublikationJournal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films32:4, 0415100734-2101

Internetlänk

Länkade data-URI:er (test)

  • 264446 (Naturvetenskap hsv)
  • 274895 (Fysik hsv)
  • 243422 (Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi pbl)
  • 214173 (Linköpings universitet Tekniska högskolan pbl)
  • 243419 (Linköpings universitet Filosofiska fakulteten pbl)
Inställningar Hjälp

Beståndsinformation saknas

Om LIBRIS
Sekretess
Blogg
Hjälp
Fel i posten?
Kontakt
Teknik och format
Sök utifrån
Sökrutor
Plug-ins
Bookmarklet
Anpassa
Textstorlek
Kontrast
Vyer
LIBRIS söktjänster
SwePub
Sondera
Uppsök

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy