Sök i LIBRIS databas



Sökning: onr:22092919 > Si incorporation in...

Si incorporation in Ti1-xSixN films grown on TiN(001) and (001)-faceted TiN(111) columns [Elektronisk resurs]

Eriksson, Anders (författare)
Tengstrand, Olof (författare)
Lu, Jun (författare)
Jensen, Jens (författare)
Eklund, Per (författare)
Rosén, Johanna (författare)
Petrov, Ivan (författare)
Greene, Joseph E (författare)
Hultman, Lars (författare)
Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik (tidigare namn)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi (tidigare namn)
Alternativt namn: IFM
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
Linköpings universitet Tekniska högskolan (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Tekniska fakulteten
Alternativt namn: Linköpings tekniska högskola
Alternativt namn: Tekniska högskolan vid Linköpings universtiet
Alternativt namn: LiTH
Alternativt namn: Linköping University. Institute of Technology
Se även: Universitet i Linköping Tekniska högskolan
Elsevier 2014
Ingår i: Surface & Coatings Technology. - 0257-8972. ; 257, 121-128
Läs hela texten
Läs hela texten
Läs hela texten
  • E-artikel/E-kapitel
Sammanfattning Ämnesord
  • Thin films consisting of TiN nanocrystallites encapsulated in a fully percolated SiNy tissue phase are archetypes for hard and superhard nanocomposites. Here, we investigate metastable SiNy solid solubility in TiN and probe the effects of surface segregation during the growth of TiSiN films onto substrates that are either flat TiN(001)/MgO(001) epitaxial buffer layers or TiN(001) facets of length 1-5 nm terminating epitaxial TiN(111) nanocolumns, separated by voids, deposited on epitaxial TiN(111)/MgO(111) buffer layers. Using reactive magnetron sputter deposition, the TiSiN layers were grown at 550 degrees C and the TiN buffer layers at 900 degrees C On TiN(001), the films are NaCl-structure single-phase metastable Ti1-xSixN(001) with N/(Ti + Si) = 1 and 0 less than= x less than= 0.19. These alloys remain single-crystalline to critical thicknesses h(c) ranging from 100 +/- 30 nm with x = 0.13 to 40 +/- 10 nm with x = 0.19. At thicknesses h greater than h(c), the epitaxial growth front breaks down locally to form V-shaped polycrystalline columns with an underdense feather-like nanostructure. In contrast, the voided epitaxial TiN(111) columnar surfaces, as well as the TiN(001) facets, act as sinks for SiNy. For Ti1-xSixN layers with global average composition values less than x greater than = 0.16, the local x value in the middle of Ti1-xSixN columns increases from 0.08 for columns with radius r similar or equal to 2 nm to x = 0.14 with r similar or equal to 4 nm. The average out-of-plane lattice parameter of epitaxial nanocolumns encapsulated in SiNy decreases monotonically with increasing Si fraction less than x greater than, indicating the formation of metastable (Ti,Si)N solid solutions under growth conditions similar to those of superhard nanocomposites for which the faceted surfaces of nanograins also provide sinks for SiNy. 


Natural Sciences  (hsv)
Physical Sciences  (hsv)
Naturvetenskap  (hsv)
Fysik  (hsv)

Indexterm och SAB-rubrik

Sputtering; Titanium silicon nitride; Superhardness; Nanocomposite; Solid solution
Inställningar Hjälp

Beståndsinformation saknas

Fel i posten?
Teknik och format
Sök utifrån
LIBRIS söktjänster

Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem

pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy