Startsida
Hjälp
Sök i LIBRIS databas

     

 

Sökning: onr:20900466 > SiNx Coatings Depos...

SiNx Coatings Deposited by Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering: Process Parameters Influencing the Nitrogen Content [Elektronisk resurs]

Schmidt, Susann (författare)
Hänninen, Tuomas (författare)
Goyenola, Cecilia (författare)
Wissting, Jonas (författare)
Jensen, Jens (författare)
Hultman, Lars (författare)
Goebbels, Nico (författare)
Tobler, Markus (författare)
Högberg, Hans (författare)
Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik (tidigare namn)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi (tidigare namn)
Alternativt namn: IFM
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
Linköpings universitet Tekniska fakulteten (utgivare)
Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik (tidigare namn)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi (tidigare namn)
Alternativt namn: IFM
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
AMER CHEMICAL SOC 2016
Engelska.
Ingår i: ACS Applied Materials and Interfaces. - 1944-8244. ; 8:31, 20386-20396
Läs hela texten
Läs hela texten
Läs hela texten
  • E-artikel/E-kapitel
Sammanfattning Ämnesord
Stäng  
  • Reactive high power impulse magnetron sputtering (rHi-PIMS) was used to deposit silicon nitride (SiNx) coatings for biomedical applications. The SiNx growth and plasma characterization were conducted in an industrial coater, using Si targets and N-2 as reactive gas. The effects of different N-2-to-Ar flow ratios between 0 and 0.3, pulse frequencies, target power settings, and substrate temperatures on the discharge and the N content of SiNx coatings were investigated. Plasma ion mass spectrometry shows high amounts of ionized isotopes during the initial part of the pulse for discharges with low N-2-to-Ar flow ratios of amp;lt;0.16, while signals from ionized molecules rise with the N-2-to-Ar flow ratio at the pulse end and during pulse off times. Langmuir probe measurements show electron temperatures of 2-3 eV for nonreactive discharges and 5.0-6.6 eV for discharges in transition mode. The SiNx coatings were characterized with respect to their composition, chemical bond structure, density, and mechanical properties by X-ray photoelectron spectroscopy, X-ray reflectivity, X-ray diffraction, and nanoindentation, respectively. The SiNx deposition processes and coating properties are mainly influenced by the Nz-to-Ar flow ratio and thus by the N content in the SiNx films and to a lower extent by the HiPIMS frequencies and power settings as well as substrate temperatures. Increasing N2-to-Ar flow ratios lead to decreasing growth rates, while the N content, coating densities, residual stresses, and the hardness increase. These experimental findings were corroborated by density functional theory calculations of precursor species present during rHiPIMS. 

Ämnesord

Engineering and Technology  (hsv)
Materials Engineering  (hsv)
Manufacturing, Surface and Joining Technology  (hsv)
Teknik och teknologier  (hsv)
Materialteknik  (hsv)
Bearbetnings-, yt- och fogningsteknik  (hsv)

Indexterm och SAB-rubrik

SiNx; HiPIMS; positive ion plasma mass spectrometry; Langmuir probe measurements; residual film stress; XPS
Inställningar Hjälp

Beståndsinformation saknas

Om LIBRIS
Sekretess
Blogg
Hjälp
Fel i posten?
Kontakt
Teknik och format
Sök utifrån
Sökrutor
Plug-ins
Bookmarklet
Anpassa
Textstorlek
Kontrast
Vyer
LIBRIS söktjänster
SwePub
Sondera
Uppsök

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy