Startsida
Hjälp
Sök i LIBRIS databas

     

 

Sökning: onr:20161554 > Novel hard, tough H...

Novel hard, tough HfAlSiN multilayers, defined by alternating Si bond structure, deposited using modulated high-flux, low-energy ion irradiation of the growing film [Elektronisk resurs]

Fager, Hanna (författare)
Howe, Brandon M. (författare)
Greczynski, Grzegorz (författare)
Jensen, Jens (författare)
Mei, A. B. (författare)
Lu, Jun (författare)
Hultman, Lars (författare)
Greene, Joseph E (författare)
Petrov, Ivan (författare)
Linköpings universitet Institutionen för fysik, kemi och biologi (utgivare)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik (tidigare namn)
Alternativt namn: Linköpings universitet. Institutionen för fysik och mätteknik, biologi och kemi (tidigare namn)
Alternativt namn: IFM
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics and Measurement Technology, Biology and Chemistry
Alternativt namn: Engelska : Department of Physics, Chemistry and Biology
Linköpings universitet Tekniska fakulteten (utgivare)
A V S AMER INST PHYSICS 2015
Engelska.
Ingår i: Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films. - 0734-2101. ; 33:5, 05E103-1-05E103-9
Läs hela texten
Läs hela texten
Läs hela texten
  • E-artikel/E-kapitel
Sammanfattning Ämnesord
Stäng  
  • Hf1-x-yAlxSiyN (0 less than= x less than= 0.14, 0 less than= y less than= 0.12) single layer and multilayer films are grown on Si(001) at 250 degrees C using ultrahigh vacuum magnetically unbalanced reactive magnetron sputtering from a single Hf0.6Al0.2Si0.2 target in mixed 5%-N-2/Ar atmospheres at a total pressure of 20 mTorr (2.67 Pa). The composition and nanostructure of Hf1-x-yAlxSiyN films are controlled by varying the energy Ei of the ions incident at the film growth surface while maintaining the ion-to-metal flux ratio constant at eight. Switching E-i between 10 and 40 eV allows the growth of Hf0.78Al0.10Si0.12N/Hf0.78Al0.14Si0.08N multilayers with similar layer compositions, but in which the Si bonding state changes from predominantly Si-Si/Si-Hf for films grown with E-i = 10 eV, to primarily Si-N with E-i = 40 eV. Multilayer hardness values, which vary inversely with bilayer period Lambda, range from 20 GPa with Lambda = 20 nm to 27 GPa with Lambda = 2 nm, while fracture toughness increases directly with Lambda. Multilayers with Lambda = 10nm combine relatively high hardness, H similar to 24GPa, with good fracture toughness. (C) 2015 American Vacuum Society. 

Ämnesord

Natural Sciences  (hsv)
Physical Sciences  (hsv)
Condensed Matter Physics  (hsv)
Naturvetenskap  (hsv)
Fysik  (hsv)
Den kondenserade materiens fysik  (hsv)
Inställningar Hjälp

Beståndsinformation saknas

Om LIBRIS
Sekretess
Blogg
Hjälp
Fel i posten?
Kontakt
Teknik och format
Sök utifrån
Sökrutor
Plug-ins
Bookmarklet
Anpassa
Textstorlek
Kontrast
Vyer
LIBRIS söktjänster
SwePub
Sondera
Uppsök

Kungliga biblioteket hanterar dina personuppgifter i enlighet med EU:s dataskyddsförordning (2018), GDPR. Läs mer om hur det funkar här.
Så här hanterar KB dina uppgifter vid användning av denna tjänst.

Copyright © LIBRIS - Nationella bibliotekssystem

 
pil uppåt Stäng

Kopiera och spara länken för att återkomma till aktuell vy